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    新聞動態(tài)
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    蒸鍍技術在玻璃瓶廠的應用
    作者:琳瑯玻璃發(fā)布:2016-02-10已訪問:4078 次

           形成薄膜的初期一般認為有三類,即島狀生長,層狀生長及層狀-島狀生長。其形態(tài)及過程受基板表面的性質,溫度及蒸鍍速度等因素的影響。其中與基板表面的清潔度關系很大。玻璃瓶生產(chǎn)廠家由于知道蒸鍍原子或分子與基板原子間作用強弱有關,若這時玻璃瓶廠把蒸鍍原子之間互相作用力強時形成島狀生長,若時測為層狀生長。
           蒸鍍的設備,除了蒸鍍用真空罐外,還需要真空排氣系統(tǒng),我們徐州玻璃瓶廠一般的蒸鍍需10-3-10-4pa的真空度,蒸鍍半導體膜時需10-6-10-8pa的超真空度。應對應選擇適應的真空度要求及排氣量的真空泵及附屬設備,這時玻璃瓶廠若選用擴散泵應注意油倒流造成的基板污染。玻璃瓶廠的蒸鍍中對應蒸發(fā)物質及量的不同,所使用蒸發(fā)源種類形式也不同,所需溫度可以依據(jù)平衡蒸汽壓所對應溫度加以選擇,徐州玻璃瓶廠用蒸發(fā)源加熱方式可以采用通電加熱,電子搶沖擊,激光照射等加熱方式。
           對基板的加熱可以使表面潔凈化,引起外誕生長及化合物反應,因而應對基板加熱。徐州玻璃瓶廠通常對基板的加熱采用基板背面設加熱器或加熱用燈,但基板溫度難以測試,雖設熱電偶但反應出的卻卻未必是基板表面的溫度。